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Hidrata tu cutis en profundidad con la mascarilla sin aclarado de 111SKIN, una fórmula rellenadora que te deja más radiante que antes. Con una consistencia suntuosa y fundente, la mascarilla se hunde en la piel para rellenar y revitalizar las zonas más secas y deshidratadas. Perfecta para cutis estresados y expuestos a menudo a los contaminantes, la mascarilla cuenta con una mezcla concentrada de ingredientes que puede dejarse en la piel después de la rutina habitual de limpieza y tonificación. Tanto si se utiliza durante el día como por la noche, la mascarilla protege la piel para favorecer un confort duradero.
Mezclada con un Complejo Hidratante, la mascarilla aprovecha las propiedades hidratantes del Alginato de Ácido Hialurónico, el Pullulan, la Urea, la Serina y la Glicerina, que actúan conjuntamente en una matriz sin fisuras. Esto crea una barrera invisible para reducir la pérdida de agua, manteniendo la humedad donde debe estar. Un Complejo de Aminoácidos añadido utiliza un proceso bioquímico para dar a su cutis fotoprotección, haciendo que los signos del daño solar sean menos perceptibles. Acabado con un botánico nutritivo, Wu Zhu Yu, la microcirculación se verá favorecida, fomentando un resultado final más brillante.
Aqua / Water / Eau, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Butylene Glycol, Glyceryl Stearate, Isopropyl Palmitate, Propanediol, Cetearyl Alcohol, Argania Spinosa (Argan) Kernel Oil, Sodium Ascorbyl Phosphate, Phenoxyethanol, Peg-100 Stearate, Xanthan Gum, Sodium Hyaluronate, Carbomer, Tocopherol, Trehalose, Urea, Arginine, Benzyl Alcohol, Evodia Rutaecarpa Fruit Extract, Helianthus Annuus (Sunflower / Tournesol) Seed Oil, Disodium Adenosine Triphosphate, Mannitol, Rna, Pyridoxine Hcl, Ethylhexylglycerin, Serine, Pentylene Glycol, Teprenone, Sodium Hydroxide, Histidine Hcl, Phenylalanine, Dehydroacetic Acid, Algin, Glyceryl Polyacrylate, Caprylyl Glycol, Pullulan, Disodium Phosphate, Tyrosine, Potassium Phosphate, Fragrance / Parfum. Paraffin Free.
- Treatment
- 111SKIN
111SKIN Meso Infusion Leave on Hydration Mask 75ml
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Hidrata tu cutis en profundidad con la mascarilla sin aclarado de 111SKIN, una fórmula rellenadora que te deja más radiante que antes. Con una consistencia suntuosa y fundente, la mascarilla se hunde en la piel para rellenar y revitalizar las zonas más secas y deshidratadas. Perfecta para cutis estresados y expuestos a menudo a los contaminantes, la mascarilla cuenta con una mezcla concentrada de ingredientes que puede dejarse en la piel después de la rutina habitual de limpieza y tonificación. Tanto si se utiliza durante el día como por la noche, la mascarilla protege la piel para favorecer un confort duradero.
Mezclada con un Complejo Hidratante, la mascarilla aprovecha las propiedades hidratantes del Alginato de Ácido Hialurónico, el Pullulan, la Urea, la Serina y la Glicerina, que actúan conjuntamente en una matriz sin fisuras. Esto crea una barrera invisible para reducir la pérdida de agua, manteniendo la humedad donde debe estar. Un Complejo de Aminoácidos añadido utiliza un proceso bioquímico para dar a su cutis fotoprotección, haciendo que los signos del daño solar sean menos perceptibles. Acabado con un botánico nutritivo, Wu Zhu Yu, la microcirculación se verá favorecida, fomentando un resultado final más brillante.
Aqua / Water / Eau, Glycerin, Caprylic/Capric Triglyceride, Butylene Glycol, Glyceryl Stearate, Isopropyl Palmitate, Propanediol, Cetearyl Alcohol, Argania Spinosa (Argan) Kernel Oil, Sodium Ascorbyl Phosphate, Phenoxyethanol, Peg-100 Stearate, Xanthan Gum, Sodium Hyaluronate, Carbomer, Tocopherol, Trehalose, Urea, Arginine, Benzyl Alcohol, Evodia Rutaecarpa Fruit Extract, Helianthus Annuus (Sunflower / Tournesol) Seed Oil, Disodium Adenosine Triphosphate, Mannitol, Rna, Pyridoxine Hcl, Ethylhexylglycerin, Serine, Pentylene Glycol, Teprenone, Sodium Hydroxide, Histidine Hcl, Phenylalanine, Dehydroacetic Acid, Algin, Glyceryl Polyacrylate, Caprylyl Glycol, Pullulan, Disodium Phosphate, Tyrosine, Potassium Phosphate, Fragrance / Parfum. Paraffin Free.
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