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Aumenta las defensas de tu piel contra el estrés oxidativo diario con la Mascarilla de Recuperación de 111SKIN, alimentada por el NAC Y2 patentado por la marca de cuidado de la piel. Este complejo antienvejecimiento avanzado, compuesto por una trifecta de activos ricos en antioxidantes, protege la piel de los agresores ambientales y favorece la síntesis óptima de glutatión, colágeno y elastina en la piel. Esta mascarilla reparadora, que aborda problemas comunes como la irritación, el enrojecimiento y la pérdida de firmeza, refuerza la función de barrera y ayuda a la piel a defenderse de las agresiones que provocan el envejecimiento prematuro. Mantén tu rostro tenso y joven con un cuidado científicamente probado.
Aqua / Water / Eau, Dipropylene Glycol, Butylene Glycol, Squalane, Cetyl Palmitate, Hydroxyethyl Acrylate/Sodium Acryloyldimethyl Taurate Copolymer, 1,2-Hexanediol, Trehalose, Aloe Barbadensis (Aloe Vera) Leaf Extract, Propanediol, Panthenol, Acetyl Zingerone, Alcohol, C18-36 Acid Triglyceride, Phenoxyethanol, Glycerin, Jojoba Esters, Hydroxyacetophenone, Hydrogenated Olive Oil Unsaponifiables, Ceramide Np, Carbomer, C12-18 Acid Triglyceride, Caprylyl Glycol, Squalene, Sorbitan Isostearate, Polysorbate 60, Sodium Ascorbyl Phosphate, Tocopheryl Acetate, Potassium Hydroxide, Hydrogenated Lecithin, Ethylhexylglycerin, Magnesium Ascorbyl Phosphate, Ectoin, Allantoin, Mannitol, Glyceryl Stearate, Phytosteryl Macadamiate, Tasmannia Lanceolata Fruit/Leaf Extract, Silk Amino Acids, Ammonium Glycyrrhizate, Butyrospermum Parkii (Shea / Karité) Butter, Phytosterols, Cholesterol, Ceramide Ns, Ceramide As, Ceramide Ap, Tocopherol, Piperonyl Glucose, Centella Asiatica Leaf Extract, Caffeine, Acetyl Cysteine, Zinc Gluconate, Dipotassium Glycyrrhizate, Phenethyl Alcohol, Benzyl Alcohol, Aesculus Hippocastanum (Horse Chestnut / Marron) Seed Extract, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Maltodextrin, Pentapeptide 59, Ceramide Eop.
- Reparative
- 111SKIN
111SKIN Exclusive NAC Y2 Recovery Mask 75ml
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