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Refina visiblemente los poros con la mascarilla Mastic Must de NIOD, una mascarilla facial transparente que se centra en las impurezas y los poros dilatados. Esta mascarilla de pH equilibrado se aplica sin esfuerzo, transforma la piel en tan solo diez minutos y se enjuaga rápida y fácilmente.
Mediante el uso de savia de alta densidad procedente de árboles de lentisco de Grecia (una goma densa que se une hasta aglomerarse), esta mascarilla intensa purifica y reduce visiblemente el tamaño de los poros sin eliminar la hidratación esencial de la piel. La potente savia es antibacteriana y antifúngica, de origen sostenible y de una pureza extrema.
La mascarilla actúa sin descanso durante diez minutos y deja una piel saludable con menos poros y más pequeños. Apta para todo tipo de pieles.
Elaborada sin aceite, silicona ni crueldad.
Por la mañana, aplicar una generosa cantidad de esta mascarilla translúcida sobre el rostro limpio. Dejar actuar durante diez minutos. Aclarar con agua templada abundante. No utilizar como un limpiador tras enjuagar. Esta fórmula contiene una alta concentración de masilla de resina para adherirse a las impurezas, dando como resultado una sensación pegajosa durante el periodo de tratamiento. (Nota: tras enjuagar con abundante agua, un paso no necesario pero beneficioso es utilizar un secador con un poco de calor y dirigirlo sobre el rostro para secarlo durante unos 15 segundos. Este paso realzará inmediatamente los resultados visibles de MM).
Aqua (Water), Glycerin, Stearic Acid, Pistacia Lentiscus (Mastic) Gum, Centaurea cyanus flower water, Sapindus Mukurossi Fruit Extract, Niacinamide, Alcohol, Honey, Coconut Acid, Magnesium aluminum silicate, Arginine, Bentonite, Butyl Avocadate, Ethyl Linoleate, Hydroxyethylcellulose, Lecithin, Phospholipids, Acacia Senegal Gum, Carrageenan, Citric Acid, Propyl Gallate, Ethoxydiglycol, Lactobacillus Ferment, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Phenoxyethanol, Chlorphenesin.
For the latest information, it is recommended to review the ingredient list printed on the packaging of the product prior to usage or consumption.
- 90ml
- NIOD
Mascarilla Mastic Must de NIOD 90 ml
31,45 €
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Refina visiblemente los poros con la mascarilla Mastic Must de NIOD, una mascarilla facial transparente que se centra en las impurezas y los poros dilatados. Esta mascarilla de pH equilibrado se aplica sin esfuerzo, transforma la piel en tan solo diez minutos y se enjuaga rápida y fácilmente.
Mediante el uso de savia de alta densidad procedente de árboles de lentisco de Grecia (una goma densa que se une hasta aglomerarse), esta mascarilla intensa purifica y reduce visiblemente el tamaño de los poros sin eliminar la hidratación esencial de la piel. La potente savia es antibacteriana y antifúngica, de origen sostenible y de una pureza extrema.
La mascarilla actúa sin descanso durante diez minutos y deja una piel saludable con menos poros y más pequeños. Apta para todo tipo de pieles.
Elaborada sin aceite, silicona ni crueldad.
Por la mañana, aplicar una generosa cantidad de esta mascarilla translúcida sobre el rostro limpio. Dejar actuar durante diez minutos. Aclarar con agua templada abundante. No utilizar como un limpiador tras enjuagar. Esta fórmula contiene una alta concentración de masilla de resina para adherirse a las impurezas, dando como resultado una sensación pegajosa durante el periodo de tratamiento. (Nota: tras enjuagar con abundante agua, un paso no necesario pero beneficioso es utilizar un secador con un poco de calor y dirigirlo sobre el rostro para secarlo durante unos 15 segundos. Este paso realzará inmediatamente los resultados visibles de MM).
Aqua (Water), Glycerin, Stearic Acid, Pistacia Lentiscus (Mastic) Gum, Centaurea cyanus flower water, Sapindus Mukurossi Fruit Extract, Niacinamide, Alcohol, Honey, Coconut Acid, Magnesium aluminum silicate, Arginine, Bentonite, Butyl Avocadate, Ethyl Linoleate, Hydroxyethylcellulose, Lecithin, Phospholipids, Acacia Senegal Gum, Carrageenan, Citric Acid, Propyl Gallate, Ethoxydiglycol, Lactobacillus Ferment, Potassium Sorbate, Sodium Benzoate, Phenoxyethanol, Chlorphenesin.
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